cvd管式炉工作原理

1. 基本原理

1.1 管式CVD设备组成

管式CVD设备由管式炉、反应气体系统、温度控制系统和真空系统等部分组成。在工作过程中，样品被加热到一定温度，反应气体在管式炉内流过，在样品表面发生化学反应，最终形成薄膜。

2. 高真空CVD系统

2.1 高真空CVD系统组成

高真空CVD系统主要由高温腔体、石英管、气路系统、分子泵机组、自动化控制系统、冷却系统等组成。在此系统中，沉底材料采用铜箔或石墨，生长腔体采用高纯石英管。

3. CVD管式炉的反应过程

3.1 反应源

CVD管式炉内放置有原料，可以是固体、气体或液体形式，通过加热使其升温。

3.2 输运系统

通过气体输送管道将原料输送至炉腔中，保证原料能够均匀分布。

3.3 反应腔室

反应腔室内发生化学反应，原料在加热的条件下与气体发生反应，沉积在基底表面形成薄膜。

4. CVD管式炉的应用

4.1 双管滑动式混气CVD系统

双管滑动式CVD系统是一款具有自动送料器和收料罐的设备，用于将粉料送入到炉管中，适用于金刚石线切割机等领域。

4.2 OTF-1250X-R8-III系统

OTF-1250X-R8-III是一款8英寸三温区回转CVD管式炉系统，设计用于合成无机化合物，提高物料反应的均匀性，最高工作温度达到1250℃，可广泛应用于制备领域。

cvd管式炉通过加热原料和反应气体在管内发生化学反应，沉积形成薄膜，主要由管式炉、反应气体系统、温度控制系统和真空系统组成，在不同领域有着广泛的应用。